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半导体工业的环境工程设计与展望

专 业: 机械电子工程
关键词: 半导体 环境工程 恒温和恒湿 洁净度 EDI高纯水 周界防范
分类号: TN301  X38
形 态: 共 88 页 约 57,640 个字 约 2.757 M内容
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内容摘要


本文是基于美国库力索法半导体集团公司在中国投资的子公司洁净厂房的设计、施工和验收的基础上,提出的半导体工业的环境工程设计与展望课题,目的在于进一步研究、探索新兴的半导体工业的环境工程,从节约成本,综合利用自动控制的先进技术来达到一个新的环境工程需求。

本文完成的主要工作有:1介绍了半导体的概念及主要产品,半导体的迅猛发展和未来展望,由此导出半导体生产所需要的环境工程,以及研究的内容、目的和意义。

2简单介绍了半导体生产所需要的环境,温度、湿度和洁净度;概述了洁净厂房的设计原则、施工方案、验收方案和标准;对洁净室的自动控制进行的探讨和研究;分析了对空间环境的品质全面调节与控制阶段,即所谓人工环境工程阶段所面临的挑战。

3对半导体生产所必备的纯净水的制造方法进行了分析研究;提出了EDI的新技术及其应用;EDI的优点和原理分析;工艺流程和功能分析;对如何实现EDI新技术的自动化控制进行了探讨;导出了新技术带来的成本和质量效益;以及提高我国的纯净水制造技术。

4如何应用现代的科学技术对半导体高科技产品进行安全保密工作;保安、防盗、监控、门禁的设计规范;科学性、合理性、可靠性、经济性的体现;探讨如何实现完全自动化控制的功能以及一些技术参数确定。

5根据以上的研究和探讨,提出了对半导体以及其它高科技产品的环境工程问题和发展方向;提出了对未来的环境工程完全实现自动化控制的设想;最后以库力索法半导体苏州有限公司的生产环境工程为实例,以及半导体行业迅猛发展的现状,来说明了环境工程的经济性和重要性……

全文目录


文摘
英文文摘
第一章 绪论
1.1现代工业的发展和未来展望
1.2半导体行业的迅猛发展
1.3半导体行业的生存环境和要求
1.4本文研究的目的和意义
1.5本文主要研究的内容及创新
1.5.1论文内容
1.5.2论文创新
第二章 高科技产品半导体所需要环境的温度、湿度和洁净度
2.1空调的诞生
2.2空调的发展符合世界经济发展和人类可持续发展
2.3半导体厂房的温度、湿度和洁净度
2.3.1 HJ空调的特征及工作原理
2.3.2洁净度分级
2.3.3半导体洁净厂房的设计
2.3.4洁净室空调施工的步骤
2.3.5洁净室空调的检验和验收
2.3.6半导体洁净室的温度、湿度和洁净度的自控系统
2.5空调发展面临新的挑战
第三章 EDI纯水制作
3.1设计思想和原理分析
3.1.1 EDI电除盐系统的十大优点
3.1.2 EDI电除盐系统工作原理分析
3.1.3 EDI模块的运行条件
3.2系统设计工艺流程和功能分析
3.2.1原水箱和原水箱泵
3.2.2计量泵
3.2.3多介质过滤器
3.2.4活性碳过滤器
3.2.5软水器
3.2.6精过滤器
3.2.7高压泵
3.2.8反渗透装置
3.2.9中间水箱和中间水泵
3.2.10 EDI装置
3.2.11紫外线杀菌装置
3.2.12终端过滤器
3.3EDI系统的自动控制
3.3.1. EDI水循环的自动控制
3.3.2.计量泵的自动控制
3.3.3.EDI的自动控制
3.3.4.故障排除
3.4未来展望
第四章 安全保密
4.1周界防范报警系统
4.1.1周界防范报警系统由两大部分组成
4.1.2系统设备介绍
4.2远程监视、监控系统
4.2.1设计依据及总体要求
4.2.2设计规范标准
4.2.3本系统将达到以下特性
4.2.4主要设备和安装要求
4.2.5主要器材技术参数
4.2.6抗干扰措施
4.3门禁、考勤系统
4.3.1.系统设计思想
4.3.2.系统功能介绍
4.3.3.系统优势
4.3.4.系统特点
4.4公共广播系统
4.4.1.系统功能介绍
4.4.2.系统设计说明
4.4.3.公共广播系统逻辑框图
4.4.4.系统设备参考
第五章 探讨问题和方向
第六章 总结和展望
参考文献

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中图分类: > TN301 > 工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 半导体技术 > 一般性问题 > 基础理论
其他分类: > X38 > 环境科学、安全科学 > 环境保护管理 > 环境与清洁生产(无污染技术)

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