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MWECRCVD系统及BN薄膜生长与特性研究

专 业: 光学
关键词: MWECRCVD hBN薄膜 取向生长 cBN薄膜
分类号: O484.1
形 态: 共 141 页 约 92,355 个字 约 4.418 M内容
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内容摘要


该论文介绍了中国对ECR等离子体CVD系统的测试、BN薄膜的制备和薄膜光学特性研究.首先在统计大量文献的基础上,分析了BN薄膜的研究、发展和趋势.总的研究趋势是波动上升的,但近年来cBN的研究呈现回落趋势.另一方面,hBN薄膜的研究逐渐受到关注.作者还介绍了BN薄膜的特性、应用和BN体系相关系的研究.文中重点研究了ECR等离子体的特性,工对作者的系统进行了Langmuir探针和Faraday筒测试,研究了等离子体参数随气压、微波功率、偏压、气体种类等的变化.系统沉积区的等离子体参数条件为电子温度1-4eV,等离子体密度10<9>-10<11>cm<-3>,离子流强0.05-0.22J/mAcm<2>.在此基础上进行了BN薄膜的实验研究……

全文目录


文摘
英文文摘
第一章 绪论
引言
BN的研究
BN的结构
BN的相关系
参考文献
第二章 MWECR沉积系统与等离子体测试
前言
第一节 等离子体基本常数与特性
第二节 ECR原理
第三节 ECR等离子体沉积系统介绍
第四节 等离子体测试与本系统的测试
小结
参考文献
第三章 ECR CVD系统制备hBN薄膜
第一节 BN薄膜的结构与表征
第二节 hBN的取向生长
小结
参考文献
第四章 hBN的特性研究
第一节 hBN的Raman偏振光谱研究
第二节 光学特性
参考文献
第五章 cBN的热丝辅助ECR CVD沉积
第一节 引言
第二节 实验
第三节 结果与讨论
第四节 影响cBN形成的因素
小结
参考文献
结论

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中图分类: > O484.1 > 数理科学和化学 > 物理学 > 固体物理学 > 薄膜物理学

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