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PZT铁电厚膜的新型Sol-Gel制备技术及其性能研究

专 业: 微电子学与固体电子学
关键词: 新型Sol-Gel技术 锆钛酸铅PZT 铁电薄膜 铁电厚膜 陶瓷超细粉 铁电声纳换能器
分类号: TN401
形 态: 共 100 页 约 65,500 个字 约 3.133 M内容
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内容摘要


该文在系统总结和全面分析PZT铁电薄、厚膜研究现状的基础上,深入研究了PZT铁电薄、厚膜材料的Sol-Gel制备技术,系统地研究了Sol-Gel工艺条件对材料的微观结构和电性能的影响。

对PZT厚膜铁电声纳换能器的结构进行了设计,并探索了其制作工艺,为高性能PZT厚膜声纳换能器的开发与应用奠定了良好的基础。

PZT铁电薄膜采用改进的Sol-Gel法制备。

采用改进的Sol-Gel工艺,制备出结晶良好、化学组成精确、颗粒分散性好、粒径约为20~30nm的PZT超细粉。

研究了Sol-Gel法制备RZT陶瓷超细粉的热处理温度和保温时间对粉末的结晶、粉体形貌及粒径的影响。

PZT铁电厚膜采用新型Sol-Gel法制备。

研究了制备0-3型PZT厚膜材料的新型Sol-Gel技术和其工艺条件对PZT厚膜的微观结构及电性能的影响,并探讨了PZT厚膜生长与厚膜致密性机理。

设计了8×8元阵列PZT厚膜声纳换能器芯片结构……

全文目录


文摘
英文文摘
1绪论
1.1铁电材料的研究发展
1.2 PZT材料结构特征
1.3 PZT材料研究及应用
1.4铁电薄、厚膜制备技术
1.5超细粉体的制备技术
2 PZT铁电薄膜So1-Gel法制备及性能研究
2.1引言
2.2实验过程
2.3 PZT凝胶的差热和热重分析
2.4 PZT铁电薄膜微结构分析
2.5 PZT铁电薄膜的电性能研究
2.6小结
3 PZT超细粉Sol-Gel法制备及分散技术
3.1 PZT粉体的制备技术
3.2 PZT先驱体溶液的合成和超细粉的制备
3.3性能表征
3.4粉末的微结构分析
3.5 Sol-Gel工艺条件对PZT超细粉性能的影响
3.6 PZT超细粉在PZT Sol溶液中的分散
3.7小结
4 PZT厚膜新型Sol-Gel法制备及性能研究
4.1 PZT厚膜的制备
4.2 PZT厚膜成膜机理
4.3分析测试
4.4新型Sol-Gel法制备工艺条件对PZT厚膜的影响
4.5 PZT厚膜微观结构分析
4.6 PZT厚膜电性能测试
4.7小结
5 PZT铁电声纳换能器阵列的结构设计与图形刻蚀
5.1引言
5.2 PZT铁电厚膜声纳换能器结构设计与制作工艺
5.3刻蚀方法研究
5.4 Pt/Ti下电极的刻蚀
5.5 Au、Cr电极的刻蚀
5.6 PZT厚膜湿法化学刻蚀
5.7铁电声纳换能器阵列微桥的刻蚀
5.8小结
6全文总结
参考文献

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中图分类: > TN401 > 工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 微电子学、集成电路(ic) > 一般性问题 > 理论

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